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    芯片廢氣處理方法-鑫藍環(huán)保

    文章出處:原創(chuàng)網(wǎng)責任編輯:蔡作者:蔡人氣:-發(fā)表時間:2024-11-27 00:00:00【

       芯片廢氣處理方法主要依據(jù)廢氣成分的不同而有所區(qū)別

    。芯片廢氣主要包括酸性廢氣、堿性廢氣
    、有機廢氣和特殊氣體。以下是
    鑫藍環(huán)保芯片廢氣處理方法的詳細闡述:

       

      酸性廢氣處理

      酸性廢氣主要來源于芯片清洗和蝕刻過程中使用的酸性化學試劑

    ,如硫酸
    、鹽酸、氟化氫等
    ,這些過程會釋放出氟化物、硫酸霧
    、氮氧化物
    、氯化氫等污染物
    。處理方法主要采用濕式洗滌塔,以堿性溶液為吸收液進行中和反應
    ,去除廢氣中的酸性成分。同時
    ,配置多級噴淋和填料層以提高凈化效率

      堿性廢氣處理

      堿性廢氣主要產(chǎn)生于刻蝕工序和使用氨水的工藝過程中,主要成分為氨氣(NH3)

    。處理方法同樣采用濕式洗滌塔
    ,但使用酸性溶液(如10%的硫酸溶液)進行中和,去除廢氣中的堿性成分

      有機廢氣處理

      有機廢氣主要來自光刻

    、清洗等過程中的有機溶劑,如丙酮
    、甲醇
    、二甲苯和異丙醇等,這些都屬于揮發(fā)性有機化合物(VOCs)
    。處理方法有多種
    ,包括但不限于:

      活性炭吸附法:利用多孔固體吸附劑來處理有機廢氣,通過化學鍵力或分子引力充分吸附有害成分

    ,并將其吸附在吸附劑的表面
    ,從而達到凈化有機廢氣的目的。當活性炭吸附飽和后
    ,可采用熱空氣或蒸汽對活性炭進行再生處理
    ,解吸出的高濃度有機廢氣再進行燃燒或催化燃燒處理。

      燃燒法:在揮發(fā)性有機物在高溫及空氣充足的條件下進行完全燃燒

    ,分解為CO2和H2O
    。燃燒法適用于各類有機廢氣
    ,可以分為直接燃燒
    、熱力燃燒和催化燃燒

      UV光解凈化法:利用高能UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧

    ,游離氧與氧分子結(jié)合產(chǎn)生臭氧,臭氧具有很強的氧化性
    ,通過臭氧對有機廢氣
    、惡臭氣體進行協(xié)同光解氧化作用,使有機廢氣
    、惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物
    、CO2和H2O。

      此外,還可以采用旋轉(zhuǎn)式濃縮吸附(如沸石轉(zhuǎn)輪)結(jié)合熱氧化技術(shù)(RTO/RCO)來處理有機廢氣

    。先通過吸附濃縮有機廢氣
    ,然后高溫氧化分解為無害的二氧化碳和水。

      在實際應用中

    ,芯片廢氣處理往往采用綜合處理工藝,如“水噴淋+UV光氧+干式過濾+活性炭吸附濃縮+催化燃燒”的組合工藝
    ,或者“預處理+冷凝回收+活性炭吸附+熱再生”的組合工藝等
    。這些綜合處理工藝能夠更有效地去除廢氣中的有害物質(zhì),確保排放達標

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