[鑫藍(lán)動態(tài)]半導(dǎo)體行業(yè)廢氣處理工藝推薦-鑫藍(lán)環(huán)保[ 2025-07-28 00:00 ]

  半導(dǎo)體行業(yè)在生產(chǎn)過程中會產(chǎn)生多種廢氣

，包括揮發(fā)性有機(jī)化合物（VOCs）

、酸性氣體

、堿性氣體

、有毒氣體以及顆粒物等

。這些廢氣若未經(jīng)有效處理直接排放

，會對環(huán)境和人體健康造成嚴(yán)重危害

。以下是針對半導(dǎo)體廢氣處理的推薦工藝

，結(jié)合了技術(shù)成熟度

、處理效率、運行成本及環(huán)保要求等因素：    一

、揮發(fā)性有機(jī)化合物（VOCs）處理工藝 沸石轉(zhuǎn)輪吸附濃縮+RTO（蓄熱式熱氧化） 工藝原理：沸石轉(zhuǎn)輪利用其多孔結(jié)構(gòu)吸附VOCs

，通過高溫脫附將濃縮后的VOCs送入RTO進(jìn)行高溫氧化分解，

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[鑫藍(lán)動態(tài)]半導(dǎo)體制造工藝有機(jī)廢氣處理設(shè)備[ 2025-03-22 00:00 ]

  鑫藍(lán)廢氣處理設(shè)備－電子廠涉及的行業(yè)很多

，不同行業(yè)在工藝上有一定差異

，產(chǎn)生的廢氣種類也有一定的差異，今天就從半導(dǎo)體行業(yè)入手為大家介紹電子廠廢氣處理

。電子廠半導(dǎo)體廢氣處理主要針對半導(dǎo)體行業(yè)有機(jī)廢氣和毒性氣體的治理

，我們嘗試使用筒式沸石轉(zhuǎn)輪廢氣處理技術(shù)。半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)生的有機(jī)廢氣

，主要可以分為

，半導(dǎo)體制造工藝有機(jī)廢氣，和半導(dǎo)體封裝工藝產(chǎn)生的有機(jī)廢氣

。    　　半導(dǎo)體制造工藝 　　1

、電子行業(yè)生產(chǎn)廠家處理有機(jī)廢氣和毒氣的處理方法 　　現(xiàn)在，半導(dǎo)體制造過程中排放的含有有

http://m.hwtyijia.com/Article/bdtzzgyyjfqclsb_1.html

，如何處理

？">[鑫藍(lán)動態(tài)]半導(dǎo)體行業(yè)的廢氣有哪些，如何處理

？[ 2024-01-18 00:00 ]

   半導(dǎo)體行業(yè)的廢氣主要包括一般氣體廢氣

、含毒性物質(zhì)的廢氣、有機(jī)廢氣和含有酸性/堿性物質(zhì)的廢氣

。其中

，有機(jī)廢氣包括非甲烷總烴、氮氧化物

、二氧化硫等

，酸堿廢氣包括氨氣、硫酸霧

、氟化物

、氯化物

、氯氣等。這些廢氣的產(chǎn)生主要來自半導(dǎo)體制造過程中的清洗

、刻蝕

、顯影等環(huán)節(jié)。    對于這些半導(dǎo)體廢氣處理

，需要根據(jù)其性質(zhì)選擇合適的方法

，如洗滌法、吸附法

、燃燒法等

。同時，還需要注意控制處理效果

，確保廢氣排放符合的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)

。 半導(dǎo)體廢氣處理方法有多種，主要包括以下幾種： 熱氧化法

，如何處理

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[鑫藍(lán)動態(tài)]半導(dǎo)體工業(yè)廢氣處理[ 2023-07-18 00:00 ]

 半導(dǎo)體廢氣的成分和廢氣處理工藝方案可能會因具體的工藝過程和廢氣排放點而有所不同。以下是一般情況下常見的半導(dǎo)體廢氣成分和廢氣處理工藝方案的示例：    1.半導(dǎo)體廢氣成分：   氣體：常見的廢氣成分包括氨氣（NH3）

、二氧化硫（SO2）

、氮氧化物（NOx）、氯化氫（HCl）

、二氧化碳（CO2）

、揮發(fā)性有機(jī)化合物（VOCs）等。   懸浮顆粒物：半導(dǎo)體制造過程中可能產(chǎn)生微小的顆粒物

，如硅塵

、金屬氧化物等。 2.半導(dǎo)體廢氣處理工藝方案：

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[鑫藍(lán)動態(tài)]鑫藍(lán)環(huán)保-半導(dǎo)體廢氣處理-沸石轉(zhuǎn)輪+催化燃燒[ 2023-03-24 00:00 ]

 新材料行業(yè)半導(dǎo)體廢氣處理的方法

。半導(dǎo)體行業(yè)與傳統(tǒng)材料相比

，新材料產(chǎn)業(yè)具有技術(shù)高度密集，研究與開發(fā)成本高

，產(chǎn)品的附加值高

，生產(chǎn)與市場的強，應(yīng)用范圍廣

，發(fā)展前景好

。    一、半導(dǎo)體制造工藝過程中揮發(fā)各種有機(jī)廢氣

，廢氣排放具有排氣量大

、排放濃度小的特點。這些廢氣排放主要可以分為四類：酸堿氣體

、有機(jī)廢氣

。 　　1、酸堿廢氣主要來自擴(kuò)散

、CVD

、CMP及刻蝕等工序，這些工序使用酸堿清洗液對晶片進(jìn)行清洗

。目前

，在半導(dǎo)體制造工藝中使用普遍的清洗溶劑為過氧化氫和硫酸的混合劑。 　　2

、

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